Наукові публікації університету

Enhanced photoresponse of Ge/Si nanostructures by combining amorphous silicon deposition and annealing


ID: 212342
Кількість показів: 21
дата змінення: 08.10.2018 12:04:19
Ким змінено (ім'я): (phys26) Тетяна Лень
Вид роботи:  Наукова публікація
Тип роботи:  Наукова стаття
Кількість сторінок:  5
Рік видання:  2018
Звітний рік:  2018
Видання:  Journal of Applied Physics
Том:  124
Випуск, частина:  9
Номери сторінок:  095703
Галузь науки:  Фізика
Автори,співробітники Університету:  Подолян Артем Олександрович / Надточій Андрій Борисович / Коротченков Олег Олександрович
Автори зовнішні:  Романюк Б. Р. / Мельник В. П. / Попов Валерій Вікторович
Кафедра / Відділ:  Загальної фізики / НДЛ Фізичне матеріалознавство твердого тіла
№ теми: 
Посилання на статтю (посилання на рецензію в журналі (для монографій):  https://doi.org/10.1063/1.5029948
Опубліковано за рішенням Вченої ради:  ні
Інститут/Факультет:  Фізичний факультет

Повернення до списку

Вгору