Наукові публікації університету

STRESS OF THE GexSi1-x/Si(001) SUFACE AT INITIAL ОXIDATION STAGES. // Proc. XII International Young Scientists’ conference on Applied Physics.- May, 23-26, 2012, Kyiv, Ukraine.


ID: 87631
Кількість показів: 58
дата змінення: 02.12.2014 22:42:35
Ким змінено (ім'я): (rff3) Михайло Котов
Вид роботи:  Наукова публікація
Тип роботи:  Праці конференції
Кількість сторінок:  2
Рік видання:  2012
Звітний рік:  2012
Видання:  XII INTERNATIONAL YOUNG SCIENTISTS’ CONFERENCE ON APPLIED PHYSICS
Том:  999
Номери сторінок:  96.0000
Галузь науки:  Фізика
Автори,співробітники Університету:   / Коваль Ігор Пилипович / Находкін Микола Григорович
Кафедра / Відділ:  Нанофізики та наноелектроніки / НДЛ Електронної спектроскопії
№ теми: 
Інститут/Факультет:  Факультет радіофізики, електроніки та комп'ютерних систем

Повернення до списку

Вгору